Roshd Nano-Fanavaran یک شرکت صنعتی و تحقیقاتی است که در سال ۲۰۱۰ در پارک علم و فناوری دانشگاه تهران تأسیس شد. این شرکت دانش‌بنیان، تمرکز زیادی بر توسعه امکانات آزمایشگاهی دارد و همچنین خدمات شناسایی مانند SEM و TEM را به مشتریان ارائه می‌دهد. در سال ۲۰۱۰، اولین دستگاه پلاسما تقویت‌شده با جریان مستقیم برای رسوب‌دهی شیمیایی بخار (PECVD) با نام PE-800 برای رشد نانولوله‌ها و نانوساختارهای کربنی معرفی شد. این واحد بعداً به PE-802 و PE-803 ارتقا یافت که در آن، راکتورهای رسوب‌دهی بیشتری برای بهبود عملکرد دستگاه به کار گرفته شد.

در ادامه، اولین نسخه از CVD با فشار پایین (LPCVD) با نام LP-80 معرفی شد که امکان رشد پلی‌سیلیکون، نیترید سیلیکون و نانو‌سیم‌های سیلیکونی را فراهم می‌کرد. این دستگاه به گونه‌ای تنظیم شده که استاندارد ایمنی بالایی داشته باشد، هم از نظر واحد مدیریت گاز و هم راکتور اصلی.

Deep Reactive Ion Etching (DRIE) یک دستگاه چشمگیر برای ایجاد ساختارهایی با نسبت ابعاد بالا روی بسترهای سیلیکونی در مقیاس میکرو و نانو است. یک اپراتور با تجربه می‌تواند ویژگی‌های سه‌بعدی منحصربه‌فردی را با استفاده از این دستگاه پیشرفته به دست آورد. این دستگاه برای اولین بار در سال ۲۰۱۱ راه‌اندازی شد.